HORIBA 的 XF-100 系列數(shù)字式液體質(zhì)量流量計是一款專為半導(dǎo)體制造等高精度流體控制場景設(shè)計的儀器。

XF-100 系列數(shù)字式液體質(zhì)量流量計

產(chǎn)品概述

HORIBA 的 XF-100 系列數(shù)字式液體質(zhì)量流量計是一款專為半導(dǎo)體制造等高精度流體控制場景設(shè)計的儀器。該系列采用壓差測量原理，具備快速響應(yīng)、高精度和潔凈設(shè)計等特點，適用于對液體流量控制要求嚴(yán)格的工藝環(huán)境。

主要技術(shù)特點

• 測量原理：基于壓差法，能夠在 100 毫秒內(nèi)實現(xiàn)高速響應(yīng)；若與壓電閥組合使用，響應(yīng)時間可縮短至 0.8 秒以內(nèi)。

• 測量精度：±0.8% 滿量程，適用于高精度流量控制需求。

• 潔凈設(shè)計：采用超潔凈結(jié)構(gòu)，滿足半導(dǎo)體等對潔凈度要求較高的應(yīng)用場景。

• 應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于半導(dǎo)體工藝中的液體流量監(jiān)控與控制，如光刻、蝕刻、薄膜沉積等環(huán)節(jié)。

型號與規(guī)格

典型應(yīng)用場景

• 半導(dǎo)體制造中的光刻、清洗、涂膠等工藝液體控制

• 光電顯示產(chǎn)業(yè)的液體配比系統(tǒng)

• 微流控與化學(xué)反應(yīng)控制設(shè)備

• 高精度試劑配液與傳輸

• 激光加工冷卻液精控

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如果您對更大流量范圍或集成控制功能有需求，HORIBA 還提供 LF-F/LV-F 系列液體質(zhì)量流量計/控制器，適用于更廣泛的工業(yè)應(yīng)用場景。

如需進(jìn)一步了解 XF-100 系列的應(yīng)用案例、選型建議或與其他流量計的對比信息，請告知您的具體需求，我將為您提供更詳細(xì)的資料和建議。